大家都知道精密真空烤箱是将干燥物料处于负压条件下进行干燥的一种箱体式干燥设备，它利用真空泵进行抽气抽湿，使工作室内形成真空状态，降低水的沸点，加快干燥的速度。爱义信精密真空烤箱具体干燥物品速度快、污染小、不对被干燥物品的内在质量造成破坏的优点。但您知道爱义信精密真空烤箱为什么要先抽真空再运行使用吗？1、试验品放入精密真空烘箱里抽真空是为了抽去工件材质中可以抽去的气体成分。如果先加热工件，气体遇热就会膨胀。由于烘箱的密封性非常好，膨胀气体所产生的巨大压力有可能使观察窗钢化玻璃爆...

传统的氮气柜通过氮气的大量填充,从而达到防氧化,保护柜内物体的目的。随着防潮技术的发展和进步,传统的氮气柜也逐渐显露出弊端:氮气的大量填充造成成本上升;柜体密封性差,导致氮气泄露,对工作人员的身体造成伤害;柜内湿度不能随时掌控,对存放物品造成损失等。全自动氮气柜有内置高纯度氮气发生器的氮气存储柜或设备。通过控制内部的相对湿度和含氧量浓度，来达到氮气存储防氧化目的。该产品被广泛应用在微电子，半导体，新能源，工行业的研发生产工序。用于各类贵金属材料，半导体器件和敏感器件的防氧化保...

为什么氮气柜对电子行业这么重要呢？电子产品一旦受潮就会发生损坏，电子产品的存储湿度一般在40%RH以下，有的湿度要求更低。如果没有氮气柜的存储，湿气进入元器件会导致接触不良、电路短路、元器件氧化、引脚分离、元件鼓胀，产品可靠性会降低。氮气柜的柜体周围有多处加强结构，承重能力非常强。爱义信氮气柜柜体表面处理采用防静电烤漆，耐腐蚀性强，不受化学物质的影响。在使用过程中要注意不要频繁的打开柜门，因为开关门会导致氮气溢出，影响柜内的氮气含量，防潮防氧化效果降低。除了频繁开关门会影响柜...

精密热风循环烘箱是一种广泛应用于实验室、电子、电气、化学、医药、食品等行业的设备。其主要功能是通过强力循环风将热空气均匀地分布在烘箱内，保证样品或物料在设定的温度条件下均匀加热或干燥。具有温度控制精度高、均匀性好、操作简单等特点，适用于对温度要求严格的应用场景。工作原理基于对热空气的加热和循环过程。在加热过程中，电加热管或其他加热元件产生热量，使得烘箱内部的空气温度升高。内置的风机系统将热空气进行强力循环，将热空气均匀地吹送到烘箱的各个区域，确保烘箱内的温度分布均匀。热风循环...

晶圆烘箱用于晶圆、半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶前的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤；也适用于电子液晶显示、LCD、实验室等生产及科研部门；也可用于非挥发性及非易燃易爆物品的干燥、热处理、老化等其他高温试验。工作原理主要基于热对流方式。在烘箱内部，通过电热器等产生热风，使热风循环流动，从而对待烘干的半导体材料进行均匀地加热和干燥。这种加热方式特别适合处理较厚的半导体材料，并能达到较好的烘干效果。晶圆烘箱通常具有多种特性，例如密封性能好、置物架设计...

两厢式冷热冲击试验箱用于电子电器零组件、自动化零部件、通讯组件、汽车配件、金属、塑胶等行业，国防工业、航天、兵工业、电子芯片IC、半导体陶瓷及高分子材料之物理性快速温度变化,测试其材料对高、低温的反复抵拉力及产品于热胀冷缩产出的化学变化或物理伤害，可确认产品的品质,从精密的IC到重机械的组件，无一不需要它的理想测试工具。两厢式冷热冲击试验箱由高温箱、低温箱、传动系统、制冷系统、加热系统及电气控制系统构成。高温箱与低温箱纵向布置，样品通过吊篮在高低温箱间快速移动，实现冷热冲击。...

温湿度试验机为了实现试验条件，不可避免地要对试验箱进行加湿和除湿的操作，这里就目前在温湿度试验箱中运用较多的各种方法进行分析，指出它们各自的优缺点和建议使用的条件。湿度表示的方法很多，就试验设备而言，通常用相对湿度这一概念描述湿度。相对湿度的定义是指空气中水汽分压力与该温度下水的饱和汽压之比并用百分数表示。由水汽饱和压力性质可知，水汽的饱和压力只是温度的函数，与水汽可处的空气压力无关，人们通过大量的实验和整理寻求到了表示水汽饱和压力与温度之间的关系，其中已被工程和计量大量采用...

在以下应用场景中，需要用到烘箱的干燥或者加热功能：1)在制药工业、食品行业（如红毛丹干燥）和农业技术、环境检测和林业中，用于测定干含量和湿度测定。对于奶粉中水分含量测定来说烘箱法很常用；2)电子产品组件的干燥、环氧树脂脱气及相应产品的老化测试；3)检测样品的制备；4)化学研究，如最佳酸水解时间的确定；5)塑料或金属材料的老化及回火；6)食品工业领域的稳定性测试；7)建筑材料、塑料构件的高温热存储；8)医院及诊所中手术包布、保温毯、冲洗液、输液等的加热与恒温；烘箱的应用不限于上...

1.加热系统加热方式：热板接触式：直接传导加热（适用于单片晶圆，温度均匀性高）。热风循环式：对流加热（适合批量处理，需优化气流分布）。红外辐射式：非接触加热（减少机械应力，用于柔性基板）。控温元件：PID算法+铂电阻（RTD）或热电偶（T/C），闭环控制精度±0.1℃。2.送风系统层流设计：垂直单向流（Downflow）确保洁净度，风速0.3~0.5m/s。风量调节：变频风机按工艺阶段调整风量（如升温阶段高风量，保温阶段低风量）。3.腔体与载具材质：不锈钢316...

无尘室氮气柜（也称为氮气保护柜或氮气箱）是一种用于实验室、生产车间等环境中的设备，主要用于提供氮气环境，以确保材料、产品或实验样品在无尘、低氧的条件下存储、加工或测试。特别是在半导体、电子、药品、化学试剂等领域，氮气柜的使用极为广泛。无尘室氮气柜的具体操作过程：1.氮气供应系统：通过外部氮气源（如液氮罐、氮气瓶或氮气发生器）提供所需的氮气。氮气通过管道进入氮气柜，并通过控制阀调节气体流量。2.内部气体替换：氮气进入柜体后，通过多次循环和换气，逐渐降低柜内的氧气浓度，直至达到设...

1.温度控制温度范围：室温~250℃（根据光刻胶类型调整，如I线胶通常90~120℃，EUV胶需200℃以上）。均匀性：±0.5℃以内（晶圆级烘箱需±0.1℃），避免胶膜厚度不均或显影缺陷。升温速率：1~5℃/秒（快速热退火RTP型烘箱可达10℃/秒）。2.洁净度Class10~100级（ISO4~5级），需配置HEPA/ULPA过滤器（过滤效率≥99.995%）。无尘设计：内腔为不锈钢或陶瓷涂层，避免颗粒污染胶面。3.气氛控制惰性气体保护（N₂、...

光刻胶烘箱是半导体制造、光电子器件加工中的关键设备，爱义信工业科技用于光刻胶（Photoresist）的前烘（Pre-Bake）和后烘（Post-Bake）工艺，其核心功能是控制胶膜的溶剂挥发、应力释放及化学键合，直接影响光刻图形的分辨率和良率。一、光刻胶烘箱的核心技术要求1.温度控制温度范围：室温~250℃（根据光刻胶类型调整，如I线胶通常90~120℃，EUV胶需200℃以上）。均匀性：±0.5℃以内（晶圆级烘箱需±0.1℃），避免胶膜厚度不均...