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产品应用:适合半导体前端单晶硅制作过程中硅片及晶圆盒的存放,防止硅片的返颗粒,返雾现象; 由于普通的干燥存储柜或者氮气柜设计都为全封闭环境,且无自净功能,故内部容易积聚大量灰尘,而这些灰尘极可能粘附在存储品上。洁净柜则适合存放需要避免灰尘污染的物品.产品特性:★4英寸超高亮数码管显示,可视距离30米,可加装氮气节约控制系统,可加装报警系统。★无尘风机——采用进口无尘室专用FFU风机,镀铝锌板材质,铝合金叶轮,风速0.3-0.45m/s,噪音=55dB。★双面护网高效过滤器——过滤效率高99.99
查看详情规格参数型号CVTE-3工作方式立体环绕壁面加热性能温度控制范围室温+10℃~250℃真空度绝对真空0.1KPa~101.325KPa(标准大气压1atm)相对真空-101.225KPa~0KPa(标准大气压1atm)温度控制精度±0.1℃温度波动度±0.5℃升温速度室温~200℃小于30分钟规格内尺寸(宽X高X深mm)W700*D700*H700mm外尺寸(宽X高X深mm)W900*D800*H1600mm容积343L层架承重30KG真空泵双极旋片真空泵4L/S电源
查看详情产品应用:适用于橡胶类产品的脱硫、硫化、二次硫化产品特性:外观结构:★外壳采用A3冷轧钢板裁剪、打磨、酸洗、磷化等表面防锈处理后烤漆,工作室采用SUS304#洁净不锈钢板满焊、耐高温密封处理★隔热层采用100mm厚100K高密度硅酸铝纤维保温材料,保温效果佳★门框密封采用无氟硅橡胶密封条,耐高温,抗老化★可定制物料台车或者依据客户已有物料车定制烘箱尺寸风路系统:★独立可控排风换气系统,可以及时排出箱体内废气,防爆,防污染★采用倒U型风道结构设计,箱内两侧单向水平送风,风道仓内强压送风★特殊可调导
查看详情规格参数型号CVTP-1工作方式立体环绕壁面加热性能温度控制范围室温+10℃~250℃真空度绝对真空0.1KPa~101.325KPa(标准大气压1atm)相对真空-101.225KPa~0KPa(标准大气压1atm)温度控制精度±0.1℃温度波动度±0.5℃升温速度室温~200℃小于30分钟规格内尺寸(宽X高X深mm)W500*D700*H500mm外尺寸(宽X高X深mm)W1100*D900*H1600mm容积175L层架承重30KG真空泵干式真空泵4L/S电源3
查看详情规格参数型号CTNH-70工作方式离心风机强制对流循环送风性能温度控制范围室温+10℃~120℃温度控制精度±0.1℃温度波动度±0.5℃温度均匀度≤±1.5℃(100℃空载)湿度控制范围1%RH~环境湿度湿度控制精度±3%RH规格内尺寸(宽X高X深mm)W400*D350*H500mm外尺寸(宽X高X深mm)W600*D650*H1000mm容积70L层架承重30KG电源220V 50HZ功率2.5KW重量约100KG结构工作室304不锈
查看详情对于大部分光刻胶与Si衬底而言,其粘附性一般都是不错的,但是在光刻中,通常会用到一些例如蓝宝石、氮化镓、砷化镓甚至是贵金属薄膜等衬底,这类衬底与光刻胶的粘附性往往不怎么理想,这会导致后续的光刻显影环节出现“裂纹”甚至是漂胶等问题。因此必须通过工艺手段改善,这个步骤我们叫做增附处理或者叫做助黏。以石英、玻璃或硅表面的氧化物(自然氧化)的形式存在的二氧化硅以及大多数金属在暴露于大气中在一定的下湿度足够长时间后在其表面形成极性OH键。这种衬底是亲水性的,因此对光刻胶的非极性或低极性树脂分子具有较差的亲
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